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8"へのファイ2"絶縁の酸化物の層との熱酸化物のシリコンの薄片のNタイプのPタイプ

シリコンの薄片
2022-05-12
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#2" Pタイプのシリコンの薄片 #Nタイプの磨かれたウエファー #磨かれたシリコンの薄片
8"へのファイ2"絶縁の酸化物の層との熱酸化物のシリコンの薄片のNタイプのPタイプ BonTekは良質のケイ素の2 ″からの300mmにすべての直径の熱酸化物のウエファーを提供する。私達は熱酸化物の高い均一層が炉で形作られるようにあなたの特定の条件が主な等級を選び、基質ことをとして自由なシリコンの薄片を逃走することによって満たされることを保障する。 micro-technologyでは、使用される... もっと見る
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