• Cの半導体のための平らで高い滑らかさおよび清潔のサファイアの基質
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Cの半導体のための平らで高い滑らかさおよび清潔のサファイアの基質

Cの半導体のための平らで高い滑らかさおよび清潔のサファイアの基質

商品の詳細:

起源の場所: 中国
ブランド名: BonTek
証明: ISO:9001
モデル番号: サファイア(Al2O3)

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最小注文数量: 5部分
価格: 交渉可能
パッケージの詳細: カセット、瓶、フィルムのパッケージ
受渡し時間: 1-4週
支払条件: T/T
供給の能力: 10000部分/月
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詳細情報

材料: サファイア(Al2O3) タイプ: 単結晶Al2O3
色: 白い Purity: 99.999%
表面: 二重側面の光沢、単一の側面の光沢 特徴: 高力、高い硬度、高い耐久性
適用: Semicondutorのウエファー、導かれた破片、光学ガラスの窓、電子製陶術 企業: 導かれた、光学ガラス、eli準備ができたウエファー
ハイライト:

半導体のサファイアの基質

,

Cの平らなサファイアの基質

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高い清潔のサファイアのウエファー

製品の説明

半導体のためのCの平らで高い滑らかさそして高い清潔のサファイアの基質

 

サファイアのウエファーは従来のサファイアの基質標準等級に加えて高い滑らかさおよび高い清潔のような高い指定を提供する新しい半導体デバイスの研究開発のために主に適している。

 

主な特長

•高力、高い硬度、高い耐久性(ダイヤモンドへの二番目にだけ硬度)

•高い伝送(赤外線範囲への紫外線の軽い伝送)

•高い耐食性(酸、アルカリ、血しょうへの高度耐性)

•高い絶縁材(絶縁体、電気を行なうこと容易ではない)

•高熱の抵抗(融点2050℃)の熱伝導率(ガラスの40回)

 

指定

•標準サイズ(φ2 「、3"、4"、6"、8"、12")、他の特別なサイズ、角の形および他の形は対応できる。

•いろいろ平らなオリエンテーションに対応できる:c平面、r平面、m平面、平面

•両面の粉砕のsingle-sided粉砕

•カスタマイズ可能な打つこと

 

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水晶材料 Al2O3の99,996%、モノクリスタル高い純度Al2O3  
水晶質 包含、ブロック マーク、双生児、色、micro-bubblesおよび分散の中心は非存在である  
直径 2inch 3inch 4inch 5inch | 7inch  
50.8± 0.1mm 76.2±0.2mm 100±0.3mm 標準生産の準備に従って  
 
厚さ 430±15µm 550±15µm 650±20µm 顧客によってカスタマイズすることができる  
オリエンテーション C- M平面(1-100)または平面(1 1-2 0)への平面(0001) 0.2±0.1° /0.3 ±0.1°のR平面(1-1 0 2)の平面(1 1-2 0)、M平面(1-1 0 0)、あらゆるオリエンテーション、あらゆる角度  
第一次平らな長さ 16.0±1mm 22.0±1.0mm 32.5±1.5 mm 標準生産の準備に従って  
第一次平らなオリエンテーション 平面(1 1-2 0)の± 0.2°  
TTV ≤10µm ≤15µm ≤20µm ≤30µm  
LTV ≤10µm ≤15µm ≤20µm ≤30µm  
TIR ≤10µm ≤15µm ≤20µm ≤30µm  
≤10µm ≤15µm ≤20µm ≤30µm  
ゆがみ ≤10µm ≤15µm ≤20µm ≤30µm  
前部表面 Epi磨かれた(RA< 0="">  
背部表面 Epi磨かれた良い地面(1.2 µmへのRa=0.5) (RA< 0="">  
ノート 顧客の特定の条件に従って良質のサファイアの基質のウエファーを提供できる  

 

物理的性質

密度 3.97 g/cm3
融点 2040の摂氏温度
熱伝導性 27.21と(K) 300 Kのm X
熱拡張 5.6 x 10 -6 /K (平行C軸線)及び5.0 (垂直なC軸線) x 10 -6 /K
硬度 Knoop 2000g圧子との2000 kg/mm 2
比熱容量 419 J/(K) kg X
比誘電率 1MHzの11.5 (平行C軸線) 9.4 (垂直なC軸線)
ヤングの係数(e) 335 GPa
せん断の係数(G) 148.1 GPa
バルク係数(k) 240 GPa
伸縮性がある係数 C11=496C12=164C13=115
C33=498C44=148
明白な伸縮性がある限界 275 MPa (40,000のpsi)
ポアソン比率 0.25

 

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受入検査

Cの半導体のための平らで高い滑らかさおよび清潔のサファイアの基質 4

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